作者： 蔡中 作者服務機構： 國立交通大學電子工程系 中文摘要： 本文是從表面量化到超晶格而回顧到量子井異質結構雷射。前二者的基本理論可以說明後者所具有的優點。對於此種雷射的製造方法及其發展過程有簡要的表白。在此短文中，僅注重雷射啟始電流密度的探討。從眾多的數據亦提出一個可能的較佳的型態。 英文摘要： -- 中文關鍵字： -- 英文關鍵字： --
